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* 企業情報 ► * ご挨拶 * 会社概要・沿革 * 企業理念 * 品質方針・環境宣言 * 組織体制 * 受賞履歴 * 製品・サービス ► * 成膜加工サービス * SOIウェーハ * 各種基板販売 * ウェーハ再生 * イオン注入サービス * SiCウェーハ販売 * 最新情報 ► * 最新30件分 * 2018年 * 2017年 * 2016年 * 2015年 * 2014年 * 2013年 * 2012年 * 2011年 * 採用情報 * お問合せ セーレンKST株式会社 * 企業情報 * ご挨拶 * 会社概要・沿革 * 企業理念 * 品質方針・環境宣言 * 組織体制 * 受賞履歴 * 製品・サービス * 成膜加工サービス * SOIウェーハ * 各種基板販売 * ウェーハ再生 * イオン注入サービス * SiCウェーハ販売 * 最新情報 * 最新30件分 * 2018年 * 2017年 * 2016年 * 2015年 * 2014年 * 2013年 * 2012年 * 2011年 * 採用情報 * お問合せ * 中文网 * English ‹ › 製品とサービス * * * * * * * 製品情報 厚膜熱酸化膜加工 当社の厚膜熱酸化膜技術は光通信部材に利用されています。 シリコンの限界を超えたシリコン。それが私たちの厚膜形成技術です。 詳しくはこちら SOIウェーハ 当社のSOIウェーハは、自社独自の厚膜熱酸化膜技術を基に製作されております。 こちらMEMS分野において大変有効です。 詳しくはこちら 基板販売 半導体用および光通信用、その他各種製品用途としてご提供いたします。 サイズや製法、面方位や厚みなどお客様のニーズに合わせた製品をご提供できます。 詳しくはこちら SICウェーハ販売 SiCウェーハは絶縁破壊電界強度がSiの10倍、熱伝導度が3倍と優れておりパワーデバイスやLED用途といして幅広く使用されています。 詳しくはこちら 最新情報 * 2023.11.20 東京事務所の階層移転をいたしました。 * 2023.11.13 「SEMICON Japan 2023」(東京ビッグサイト/12.13-15/ブースNo.3820)に出展いたします * 2022.01.14 代表取締役社長が交代いたしました。 * 2021.09.10 電子デバイス産業新聞に記事が掲載されました。 * 2021.09.09 SiCウェーハの取扱いを開始いたしました。 * 2021.05.15 資本金を1億円に変更いたしました。 採用情報 募集情報はこちら ▲ セーレンKST株式会社 (SEIREN KST Corp.) 【本社・工場】 〒918-8135 福井県福井市下六条町13-23 MAP TEL 0776-41-7333 (代) FAX 0776-41-3037 【東京事務所】 〒107-0062 東京都港区南青山1丁目1-1 新青山ビル東館17階 MAP TEL 03-6834-7453(代) FAX 03-6834-7455 * 採用情報 * サイトマップ * 個人情報保護方針 * お問合せ * 企業情報 * ご挨拶 * 会社概要・沿革 * 企業理念 * 品質方針・環境宣言 * 組織体制 * 受賞履歴 * 最新情報 * 2015年 * 2014年 * 2013年 * 2012年 * 2011年 * 製品とサービス * 成膜加工サービス * SOIウェーハ * 各種基板販売 * ウェーハ再生 * イオン注入サービス * SiCウェーハ セーレンKST株式会社 (SEIREN KST Corp.) 【本社・工場】 〒918-8135 福井県福井市下六条町13-23 MAP TEL 0776-41-7333 (代) FAX 0776-41-3037 【東京事務所】 〒107-0062 東京都港区南青山1丁目1-1 新青山ビル東館17階 MAP TEL 03-6854-4501 (代) FAX 03-3273-0065 Copyright (c) 2020 SEIREN KST Corp. All rights reserved.